ASML intende sviluppare una nuova soluzione per produrre attrezzature avanzate per la fabbricazione di chip su aree maggiori

ASML ha dichiarato di pianificare una collaborazione con i principali clienti per sviluppare nuove soluzioni in grado di produrre attrezzature per la produzione di chip all'avanguardia, al fine di soddisfare la domanda di chip di grandi dimensioni progettati da aziende come Nvidia per i data center. Attualmente, le litografie EUV prodotte da ASML sono ampiamente utilizzate e possono fabbricare chip con un'area massima di circa 800 millimetri quadrati; la prossima generazione di litografie EUV "ad alta apertura numerica", in arrivo da ASML, sarà in grado di produrre chip ancora più precisi. Tuttavia, a causa dell'utilizzo di maschere di dimensioni più ridotte, al momento vi sono limitazioni nella superficie massima dei chip che si possono produrre. ASML prevede di mostrare una linea di produzione sperimentale con maschere di dimensioni maggiori entro il 2031 e di rendere questa nuova tecnologia idonea alla produzione di massa nel 2033.