ASML nilalayon na gawing mass production ang bagong henerasyon ng malaking chip lithography technology sa 2033

Sinabi ng ASML na plano nitong makipagtulungan sa mga pangunahing kliyente upang bumuo ng mga bagong solusyon na makakalikha ng pinaka-advanced na kagamitan para sa paggawa ng chips, upang matugunan ang pangangailangan para sa malalaking data center chips na idinisenyo ng mga kumpanya tulad ng Nvidia. Sa kasalukuyan, ang malawakang ginagamit na extreme ultraviolet (EUV) lithography machine na ginagawa ng ASML ay kayang gumawa ng chips na may pinakamalaking sukat na humigit-kumulang 800 square millimeters. Ang susunod na henerasyon ng "high numerical aperture" EUV lithography machine ng ASML ay makakalikha ng mas pinong chips. Gayunpaman, dahil gumagamit ito ng mas maliit na sukat ng mask, limitado pa rin ang laki ng chips na kayang gawin nito. Plano ng ASML na sa 2031 ay ipakita ang trial production line na gumagamit ng mas malaking mask, at pagsapit ng 2033 ay gawing posible ang mass production gamit ang bagong teknolohiyang ito.