Plano ng ASML na bumuo ng bagong solusyon para sa paggawa ng mas malalaking advanced na kagamitan sa chip manufacturing

```htmlSinabi ng ASML na plano nitong makipagtulungan sa mga pangunahing kliyente upang bumuo ng bagong mga solusyon na makakagawa ng pinakabagong kagamitan para sa paggawa ng mga advanced na chips, upang matugunan ang pangangailangan para sa malalaking data center chips na dinisenyo ng mga kumpanyang tulad ng Nvidia. Sa kasalukuyan, ang widely-used extreme ultraviolet (EUV) lithography machines na gawa ng ASML ay kayang lumikha ng mga chips na may pinakamalaking sukat na humigit-kumulang 800 square millimeters. Ang susunod na henerasyon ng “high-numerical-aperture” EUV lithography machine ng ASML ay makakagawa ng mas maseselang chips. Gayunman, dahil gumagamit ito ng mas maliit na mask, limitadong sukat ng chips ang maaari nitong gawin. Plano ng ASML na ipakita ang experimental production line na gumagamit ng mas malaking mask size sa 2031, at gawing posible ang malakihang mass production ng bagong teknolohiya na ito pagsapit ng 2033.```