ASML、Samsung擴大高數值孔徑EUV技術合作伙伴關係

03:33 AM EDT，2026年9月8日（MT Newswires）——ASML（ASML）與三星電子週二表示，雙方將擴大合作夥伴關係，推動High NA EUV光刻技術與半導體製造，用於下一代晶片。公司表示，三星將加入業界推動12吋光罩（photomasks）適用於High NA EUV系統的研發，此舉有望提升晶片生產效率並降低成本，相較於目前的6吋格式。此外，三星亦計畫於2028年前在大規模DRAM生產中採用ASML的High NA EUV技術。