ASML plant die Entwicklung neuer Lösungen zur Herstellung von fortschrittlichen Chipfertigungsanlagen mit größerer Fläche.

ASML gab bekannt, dass das Unternehmen plant, gemeinsam mit seinen wichtigsten Kunden neue Ansätze zu entwickeln, die die Herstellung von hochmodernen Chipfertigungsanlagen ermöglichen, um den Anforderungen von großflächigen Rechenzentrums-Chips, wie sie von Unternehmen wie Nvidia entworfen werden, gerecht zu werden. Die derzeit von ASML produzierten und weit verbreiteten EUV-Lithografie-Maschinen können Chips mit einer maximalen Fläche von etwa 800 Quadratmillimetern herstellen. Die nächste Generation der „High Numerical Aperture“ EUV-Lithografie-Maschine von ASML wird in der Lage sein, noch präzisere Chips herzustellen. Allerdings ist die herstellbare Chipfläche aufgrund der derzeit verwendeten kleineren Masken begrenzt. ASML plant, bis 2031 eine Testproduktionslinie mit größeren Masken zu präsentieren und bis 2033 diese neue Technologie für die Massenproduktion bereitzustellen.