ACM Research erweitert Ultra C Tahoe zu einer Mehrprozess-Nassbearbeitungsplattform
Reuters2026/08/07 09:11- ACM Research hat sein Ultra C Tahoe-System zu einer Mehrprozess-Nassbearbeitungsplattform für die Fertigung von fortschrittlicher Logik und Speicher erweitert.
- Die Plattform vereint Batch- und Einzelwafer-Nassprozesse in einer Architektur und zielt darauf ab, Wafertransfers zu reduzieren, Durchlaufzeiten zu verkürzen und den Durchsatz zu verbessern.
- Mehrere führende Chiphersteller haben die erweiterte Plattform übernommen, was die Produktionsbereitschaft für Nassbearbeitung bei fortschrittlichen Fertigungsknoten signalisiert.
- Die hinzugefügte Funktion zur Wiederaufarbeitung von Monitor-Wafern läuft nun in der Massenproduktion und konsolidiert Filmentfernung, Reinigung und Trocknung in einem Werkzeug.
- Das Unternehmen nannte bis zu 75 % geringeren Schwefelsäureverbrauch und strebt damit Kostenreduktion und weniger Chemieabfall an.
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