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ACM Research erweitert Ultra C Tahoe zu einer Mehrprozess-Nassbearbeitungsplattform

ACM Research erweitert Ultra C Tahoe zu einer Mehrprozess-Nassbearbeitungsplattform

ReutersReuters2026/08/07 09:11
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  • ACM Research hat sein Ultra C Tahoe-System zu einer Mehrprozess-Nassbearbeitungsplattform für die Fertigung von fortschrittlicher Logik und Speicher erweitert.
  • Die Plattform vereint Batch- und Einzelwafer-Nassprozesse in einer Architektur und zielt darauf ab, Wafertransfers zu reduzieren, Durchlaufzeiten zu verkürzen und den Durchsatz zu verbessern.
  • Mehrere führende Chiphersteller haben die erweiterte Plattform übernommen, was die Produktionsbereitschaft für Nassbearbeitung bei fortschrittlichen Fertigungsknoten signalisiert.
  • Die hinzugefügte Funktion zur Wiederaufarbeitung von Monitor-Wafern läuft nun in der Massenproduktion und konsolidiert Filmentfernung, Reinigung und Trocknung in einem Werkzeug.
  • Das Unternehmen nannte bis zu 75 % geringeren Schwefelsäureverbrauch und strebt damit Kostenreduktion und weniger Chemieabfall an.


Disclaimer: Diese Kurznachricht wurde von Public Technologies (PUBT) unter Einsatz generativer künstlicher Intelligenz erstellt. Obwohl PUBT bestrebt ist, genaue und zeitnahe Informationen bereitzustellen, dient dieser KI-generierte Inhalt ausschließlich Informationszwecken und stellt keine Finanz-, Investitions- oder Rechtsberatung dar. ACM Research Inc. hat die Originalinhalte, die zur Erstellung dieser Kurznachricht verwendet wurden, am 07. August 2026 über GlobeNewswire (Ref. ID: 202608070500PRIMZONEFULLFEED9805887) veröffentlicht und ist allein verantwortlich für die darin enthaltenen Informationen.

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